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CVD and ALD Precursors by Metal - Vapor Deposition Precursors
Silicon - CVD and ALD Precursors by Metal
Silicon - CVD and ALD Precursors by Metal
目录项下的产品
919-30-2 / MFCD00008207
(3-Aminopropyl)triethoxysilane
(3-氨丙基)三乙氧基硅烷
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1450-14-2 / MFCD00008258
Hexamethyldisilane
六甲基二硅烷
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999-97-3 / MFCD00008259
Hexamethyldisilazane
六甲基二硅氮烷
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75-76-3 / MFCD00008274
Tetramethylsilane
四甲基硅烷
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631-36-7 / MFCD00009019
Tetraethylsilane
四乙基硅烷
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10026-04-7 / MFCD00011229
Tetrachlorosilane
四氯化硅
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2370-88-9 / MFCD00039567
2,4,6,8-Tetramethylcyclotetrasiloxane
2,4,6,8-四甲基环四硅氧烷
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7789-66-4 / MFCD00049530
Silicon bromide
四溴化硅
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√
1172-76-5 / MFCD00051536
1,2-Dimethyl-1,1,2,2-tetraphenyldisilane
1,2-二甲基-1,1,2,2-四苯基乙硅烷
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√
6166-86-5 / MFCD00053531
2,4,6,8,10-Pentamethylcyclopentasiloxane
2,4,6,8,10-环五硅氧烷
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4098-30-0 / MFCD00053564
1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-Dodecamethylhexasilinane
十二甲基环己硅烷
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992-94-9 / MFCD00053655
Methylsilane
甲基硅烷
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17882-94-9 / MFCD00054742
1,3-Diethyl-1,1,3,3-Tetramethyldisilazane
1,3-二乙基-1,1,3,3-四甲基二硅烷胺
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4342-61-4 / MFCD00078528
1,2-Dichloro-1,1,2,2-tetramethyldisilane
1,2-二氯-1,1,2,2-四甲基二硅烷
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18166-43-3 / MFCD00271024
Tris(Tert-Butoxy)Silanol
三(叔丁氧基)硅烷醇
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814-98-2 / MFCD00274234
1,1,2,2-Tetramethyldisilane
1,1,2,2-四甲基乙硅烷
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1560-28-7 / MFCD00456692
Chloropentamethyldisilane
氯五甲基二硅烷
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中华人民共和国
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205503-61-3 / MFCD02683517
N,N',N''-Tri-tert-butylsilanetriamine
N,N′,N′′-三叔丁基硅烷三胺
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17906-35-3 / MFCD03427135
Tri-T-Pentoxysilanol
三叔戊氧基硅烷醇
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812-15-7 / MFCD03427188
Disilane, pentamethyl-
五甲基二硅烷
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17425-82-0 / MFCD08276780
N-SEC-BUTYL(TRIMETHYLSILYL)AMINE
N-仲丁基(三甲基甲硅烷基)胺
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27491-86-7 / MFCD09842774
Tris(isopropoxy)silanol
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