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Materials Science 材料科学
Micro/NanoElectronics - Materials Science
Vapor Deposition Precursors - Micro/NanoElectronics
CVD and ALD Precursors by Metal - Vapor Deposition Precursors
Aluminum - CVD and ALD Precursors by Metal
Aluminum - CVD and ALD Precursors by Metal
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75-24-1 / MFCD00008252
Trimethylaluminum
三甲基铝
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100-99-2 / MFCD00008929
Triisobutylaluminium
三异丁基铝
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14319-08-5 / MFCD00058918
Tris(2,2,6,6-Tetramethyl-3,5-Heptanedionato)Aluminum
三(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮)铝
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32093-39-3 / MFCD00269811
Hexakis(dimethylamino)dialuminum
六(二甲氨基)二铝
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