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Vapor Deposition Precursors for Neodymium Thin Films
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目录项下的产品
148274-47-9 / MFCD03427089
Tris[N,N-Bis(Trimethylsilyl)Amide]Neodymium(Iii)
三［N,N-双（三甲基硅烷）胺］钕(III)
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