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Micro/NanoElectronics - Materials Science
Vapor Deposition Precursors - Micro/NanoElectronics
CVD and ALD Precursors by Metal - Vapor Deposition Precursors
Tin - CVD and ALD Precursors by Metal
Tin - CVD and ALD Precursors by Metal
目录项下的产品
7393-43-3 / MFCD00008637
Tetraallylstannane
四烯丙基锡
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1064-10-4 / MFCD00014070
1,1,1,2,2,2-Hexaphenyldistannane
六苯基二锡
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试剂
北京市
√
1066-77-9 / MFCD00014860
Tetrakis(dimethylamino)tin(IV) TDMASn
四(二甲氨基)锡
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安徽省
中华人民共和国
√
6452-61-5 / MFCD00031522
Stannane, dibutyldiphenyl-
二丁基二苯基锡
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试剂
59863-13-7 / MFCD00191794
BIS[BIS(TRIMETHYLSILYL)AMINO]TIN II
双[双(三甲基甲硅烷基)氨基]锡(II)
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试剂
√
1066-78-0 / MFCD00239515
Tetrakis(diethylamido)tin(IV)
四(二乙基酰胺)锡(IV)
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试剂