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Tin - Solution Deposition Precursors
Tin - Solution Deposition Precursors
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301-10-0 / MFCD00002676
Tin(II) 2-ethylhexanoate
2-乙基己酸锡(II)
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1067-55-6 / MFCD00008345
Dibutyldimethoxytin
二丁基二甲氧基锡
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1067-52-3 / MFCD00009419
Tributyl(methoxy)stannane
三丁基(甲氧基)锡烷
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2800-96-6 / MFCD00014976
Tin(Iv) Acetate
乙酸锡(IV)
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16919-46-3 / MFCD00015316
Tin(Iv) Chloride Bis(2,4-Pentanedionate)
双(2,4-戊烷二酮酸)二氯化锡(IV)
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814-94-8 / MFCD00040678
Stannous oxalate
草酸亚锡
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638-39-1 / MFCD00054408
Tin(II) Acetate
乙酸锡
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16894-10-3 / MFCD00075325
Tin(Iv) Bis(Acetylacetonate) Dibromide
双(乙酰丙酮)二溴化锡(IV)
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22673-19-4 / MFCD00077994
Dibutyltin Bis(2,4-Pentanedionate)
双(乙酰丙酮酯)二丁基锡
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36809-75-3 / MFCD00156551
Tin(IV) t-butoxide
叔丁氧锡(IV)
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